나노 분말 제조업체에게는 원하는 입자 크기를 달성하는 것이 중요합니다. 많은 업체가 건식 분쇄를 통해 나노 단위의 결과를 얻는 것을 목표로 합니다. 하지만 건식 분쇄에는 어려움이 따릅니다. 분쇄 과정에서 상당한 양의 에너지가 투입되며, 이로 인해 분말 온도가 급격히 상승합니다. 이러한 온도 상승은 나노 분말의 미세 입자 특성과 결합되어 제어하기 어려운 폭발 위험을 초래할 수 있습니다.
대부분 사례건식 분쇄로 얻을 수 있는 입자 크기는 약 8μm로 제한됩니다. 8μm보다 미세한 입자 크기가 필요한 응용 분야에서는 습식 분쇄가 필요합니다. 습식 분쇄는 온도 급상승을 방지할 뿐만 아니라 입자 크기를 더욱 정밀하게 제어할 수 있게 해줍니다. 따라서 초미립 나노 분말을 얻는 데 선호되는 방법입니다.
습식 분쇄 이해: 나노급 분말 달성
습식 분쇄 나노 분말을 적절한 용매와 혼합하여 가공 가능한 슬러리를 만드는 과정입니다. 분쇄 과정에서 응집을 방지하기 위해 적절한 분산제나 기타 첨가제를 분쇄 보조제로 첨가하는 것이 필수적입니다. 슬러리가 아닌 최종 나노급 분말을 얻고자 하는 경우, 추가적인 단계가 필요합니다. 먼저 슬러리를 여과하여 큰 입자를 제거한 후, 건조하여 미세한 나노 분말을 얻어야 합니다.
습식 분쇄를 통해 고품질 나노급 분말을 성공적으로 얻으려면 적절한 용매, 분산제, 여과 방법 및 건조 기술을 선택하는 것이 매우 중요합니다. 이러한 선택은 최종 제품의 농도, 안정성 및 미세도에 직접적인 영향을 미칩니다.
건식 분쇄에서는 볼 밀과 같은 장비가 일반적으로 사용되며, 공정을 용이하게 하기 위해 일반적으로 직경 5, 6, 8, 10, 15 또는 20mm 범위의 더 큰 지르코늄 산화물 비드를 사용합니다. 그러나 비드 밀을 이용한 습식 분쇄의 경우, 지르코늄 산화물 비드의 크기는 초기 입자 크기와 원하는 최종 미세도를 고려하여 신중하게 선택해야 합니다. 작은 비드가 초미립 결과를 얻는 데 더 효과적이기 때문입니다.
